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title: Aplicaciones del plasma | Thierry Corporation
description: Las aplicaciones del plasma permiten a los fabricantes cambiar la composición química de las superficies con tecnología de plasma.
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# Aplicaciones del plasma

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El cambio de la composición química de la superficie con tecnología de plasma y sus métodos de procesamiento se utilizan en muchas aplicaciones industriales y de investigación. El tratamiento de superficies de un material con un método de limpieza, activación, grabado y deposición en seco son opciones de procesos poderosas y rentables. La capacidad de realizar distintas opciones de proceso con control, repetibilidad y equipo escalable hace que el tratamiento por plasma sea una competencia central deseable para cualquier empresa de fabricación o equipo de investigación.

#### eBook

#### Guía de activación de superficies para mejorar la adhesión

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### [Activación por plasma Con la activación por plasma, las superficies no reactivas o no humedecibles pueden modificarse para obtener mayor energía superficial, mejor humectación y propiedades de adhesión optimizadas. Este aumento de la adhesión conduce a una mejora en el rendimiento y la fiabilidad del producto. Los procesos de fabricación son fáciles de establecer, optimizar y controlar. En el proceso, se pueden lograr tiempos takt razonables e incluso muy breves en la mayoría de los materiales de elección utilizados en la industria actual.](https://www.thierry-corp.com/plasma-activation?hsLang=es-mx)

[Obtenga más información sobre la activación por plasma](https://www.thierry-corp.com/plasma-activation?hsLang=es-mx)

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### [Unión de PDMS y microfluídica Un campo importante para el plasma de baja presión es la activación de polidimetilsiloxano (PDMS) para el diseño y la producción de sistemas microfluídicos en aplicaciones médicas e industriales. Estos dispositivos se producen a partir de una clase especial de PDMS adherido al vidrio, a sí mismo o a otros polímeros. Un PDMS común es Dow Sylgard 184, que está diseñado y estructurado individualmente para cada aplicación específica. Los fabricantes de dispositivos microfluídicos utilizan el tratamiento por plasma para permitir la unión de componentes de PDMS, polímeros o elementos que contienen silicio (Si), como vidrio o silicio puro.](https://www.thierry-corp.com/pdms-bonding-microfluidics?hsLang=es-mx)

[Obtenga más información sobre la unión de PDMS y microfluídica](https://www.thierry-corp.com/pdms-bonding-microfluidics?hsLang=es-mx)

[![plasma_cleaning](https://www.thierry-corp.com/hubfs/Thierry_Aug20/Plasma_applications/main/plasma_cleaning.jpg) ](https://www.thierry-corp.com/plasma-cleaning?hsLang=es-mx)

### [Limpieza por plasma La limpieza por plasma es el proceso de eliminar contaminantes no deseados de una superficie mediante la gasificación o el cambio de la fase del material extraño (de sólido o líquido) a gaseoso. Luego, este gas se elimina del área de la superficie y da como resultado un material limpio. La limpieza por plasma está orientada a un amplio grupo de operaciones de fabricación, que incluyen limpieza por plasma (para eliminar materiales orgánicos), limpieza por plasma (para eliminar materiales inorgánicos), limpieza por plasma antiséptica (para eliminar elementos biológicos), limpieza por plasma ultrafina (para mejorar dispositivos aeroespaciales y micromecánicos) y desengrasado. La limpieza por plasma elimina la necesidad de utilizar disolventes y otros métodos de limpieza que producen compuestos orgánicos volátiles (COV) para lograr un proceso de fabricación más limpio y seguro.](https://www.thierry-corp.com/plasma-cleaning?hsLang=es-mx)

[Obtenga más información sobre la limpieza por plasma](https://www.thierry-corp.com/plasma-cleaning?hsLang=es-mx)

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### [Recubrimiento por plasma El recubrimiento por plasma es una aplicación que utiliza un proceso aditivo que modifica las propiedades de la superficie de un material. Gracias a este método de tratamiento, las superficies pueden volverse hidrofóbicas, hidrófilas, resistentes a los rayones o a la corrosión, metalizadas o adquirir muchas otras terminaciones superficiales químicas o moleculares.](https://www.thierry-corp.com/plasma-coating?hsLang=es-mx)

[Obtenga más información sobre el recubrimiento por plasma](https://www.thierry-corp.com/plasma-coating?hsLang=es-mx)

[![low_friction_coating](https://www.thierry-corp.com/hubfs/Thierry_Aug20/Plasma_applications/main/low_friction_coating.jpg) ](https://www.thierry-corp.com/low-friction-coating?hsLang=es-mx)

### [Recubrimiento de baja fricción El recubrimiento de baja fricción es el proceso de aplicar una capa de material depositado por plasma a una superficie de alta fricción que normalmente sería pegajosa o adherente. Esto suele realizarse en la superficie de juntas tóricas o sellos elastoméricos para facilitar su manipulación durante la fabricación y el ensamblaje de los productos. Este proceso también permite que las juntas tóricas sean menos pegajosas, por lo que pueden colocarse en alimentadores vibratorios y usarse con sistemas de automatización o equipos para el ensamblaje de productos.](https://www.thierry-corp.com/low-friction-coating?hsLang=es-mx)

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[![plasma_etching](https://www.thierry-corp.com/hubfs/Thierry_Aug20/Plasma_applications/main/plasma_etching.jpg) ](https://www.thierry-corp.com/plasma-etching?hsLang=es-mx)

### [Grabado por plasma El grabado por plasma es el proceso de eliminar material de una superficie mediante la gasificación o el cambio de la fase del material a gas. Luego, este gas se elimina del área general de la superficie. El grabado por plasma describe un amplio grupo de operaciones que incluyen el grabado no corrosivo, el grabado de servicio corrosivo o el grabado físico.](https://www.thierry-corp.com/plasma-etching?hsLang=es-mx)

[Obtenga más información sobre el grabado por plasma](https://www.thierry-corp.com/plasma-etching?hsLang=es-mx)

[![Grabado iónico reactivo (RIE)](https://www.thierry-corp.com/hubfs/Thierry_Aug20/Plasma_applications/main/RIE.jpg) ](https://www.thierry-corp.com/reactive-ion-etching-rie?hsLang=es-mx)

### [Grabado iónico reactivo (RIE) Si bien los términos grabado iónico reactivo (RIE) y grabado por plasma se utilizan a menudo indistintamente, estos no son sinónimos. El grabado por plasma es un término genérico para todos los procedimientos de grabado que se pueden realizar con plasma, mientras que el grabado iónico reactivo (RIE) es un subtipo que emplea la aceleración de los iones cargados hacia la superficie de la pieza. Esta aceleración aumenta direccionalmente la velocidad de grabado de los átomos. Esto significa que la velocidad de grabado del material perpendicular a la superficie es más rápida que la velocidad de grabado del material paralelo a la superficie. En el grabado iónico reactivo (RIE), el proceso de esta velocidad diferencial o velocidad de grabado diferencial significa que puede tener menos distancia entre las características grabadas. Esto permite que el tamaño de las características producidas se reduzca y la densidad de las características aumente. El grabado iónico reactivo (RIE) se utiliza comúnmente en los sistemas semiconductores y microelectromecánicos (MEMS).](https://www.thierry-corp.com/reactive-ion-etching-rie?hsLang=es-mx)

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