PLASMA ASHER

El plasma asher se emplea para grabar materiales como las obleas de silicio. Al plasma asher también se le conoce como grabador de plasma. El plasma asher se emplea generalmente para eliminar capas fororresistentes grabando la superficie de dispositivos semiconductores. El grabado de estos materiales se realiza dentro de una cámara de plasma, casi siempre con gases de oxígeno o flúor. El plasma asher puede grabar partes a una velocidad de un micrómetro por minuto y hasta 25 obleas a la vez. Este proceso tiene resultados de gran uniformidad en los materiales.

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