Grabado anisotrópico vs. grabado isotrópico

Hay dos tipos de grabado con plasma: grabado anisotrópico y grabado isotrópico. Las diferencias entre el grabado anisotrópico y el isotrópico tienen que ver con la forma en la que graban por debajo de la máscara de grabado.

Hay dos tipos de grabado con plasma: grabado anisotrópico y grabado isotrópico. Las diferencias entre el grabado anisotrópico y el isotrópico tienen que ver con la forma en la que graban por debajo de la máscara de grabado. En el grabado anisotrópico el grabado con plasma es perpendicular a la superficie y se lleva a cabo en una dirección, mientras que en el grabado isotrópico el grabado con plasma ocurre en todas las direcciones. Tanto el grabado anisotrópico como el grabado isotrópico se pueden realizar con los sistemas de plasma a baja presión de Thierry. 

Los métodos y usos del grabado anisotrópico

El grabado anisotrópico se emplea en la producción de obleas para la tecnología de semiconductores. El grabado anisotrópico perpendicular es perfecto para grabar patrones de circuitos. El grabado anisotrópico se logra mediante un proceso llamado grabado iónico reactivo (RIE, por siglas en inglés). Al colocar electrodos en ambos lados del objeto que se va a grabar, los iones rebotan de un electrodo a otro bombardeando la superficie del material en un ángulo perpendicular. Esto evita el redondeamiento del grabado que ocurre en el grabado isotrópico.