Grabado con HF

El grabado con HF es una forma de grabado húmedo que emplea ácido fluorhídrico para grabar superficies, a diferencia de los procesos de grabado seco con plasma.

El grabado con HF es una forma de grabado húmedo que emplea ácido fluorhídrico para grabar superficies, a diferencia de los procesos de grabado seco con plasma. El grabado con HF es capaz de grabar materiales como dióxido de silicio amorfo, cuarzo y vidrio con velocidades de grabado muy elevadas. Debido a que el grabado con HF es un proceso húmedo, es decir, que emplea sustancias químicas líquidas, se obtiene un grabado isotrópico. Esto significa que resultan bordes redondeados de grabado por debajo de la máscara de grabado. Generalmente, éste no es un resultado deseable, ya que la mayoría de los procesos de microfabricación requieren el tipo de grabado anisotrópico que se puede obtener con el grabado con plasma. 

Grabado con HF amortiguado  

El grabado con HF amortiguado es una técnica de uso muy común en microfabricación. El grabado con HF amortiguado, también conocido como grabado amortiguado con óxido, emplea una mezcla de un agente amortiguador como fluoruro de amonio y ácido fluorhídrico. La adición del agente amortiguador al agente de grabado con HF permite obtener un grabado más preciso. El grabado con HF regular es demasiado rápido como para permitir un buen control, lo que ocasiona el descascaramiento del resistivo fotosensible. El grabado con HF amortiguado se usa principalmente para el grabado de obleas de dióxido de silicio o nitruro de silicio como parte del proceso de fabricación de circuitos integrados.