El grabado en seco es el proceso de usar una máscara para que actúe como un patón para que las partículas de plasma bombardeen la superficie y formen el patrón que fue establecido por la máscara
El proceso de grabado de un material se puede realizar mediante dos métodos, grabado en húmedo (quí-mico) o en seco (plasma). La máscara actuará como una guí-a para el proceso que se utiliza para crear el patrón.
Lo contrario del grabado en húmedo es el grabado en seco, un proceso que utiliza plasma como medio para imprimir un patrón en una superficie. No se necesitan materiales especí-ficos para actuar como máscara de grabado. Incluso se puede utilizar cinta para marcar patrones. Dejando de lado la necesidad de productos quí-micos peligrosos y los riesgos innecesarios que se pueden evitar fácilmente mediante el proceso de grabado en seco.
Para obtener más información sobre el grabado, consulte nuestro libro electrónico titulado "Estrategia de limpieza y grabado con plasma para una mejor calidad del producto".
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