Grabado de Iónico Reactivo

Aunque los términos grabado iónico reactivo (RIE, por sus siglas en inglés) y “grabado con plasma” frecuentemente se usan indistintamente, en realidad no son lo mismo. El grabado con plasma es un término general que abarca todos los procedimientos de grabado que pueden realizarse con plasma, mientras que el RIE es un subtipo que emplea especies químicas ionizadas reactivas.

RIE – Desarrollo

El RIE se desarrolló originalmente como consecuencia de la reducción continua de los circuitos integrados. Con el grabado químico húmedo, las estructuras más pequeñas que pueden obtenerse son de tres micrómetros. El RIE combina especies químicamente activas como el XeF2 y partículas que transmiten energía física (principalmente argón) y le confieren la anisotropía deseable al proceso de grabado. Con el RIE se pueden crear estructuras de orden nanométrico. El RIE es capaz de tratar hasta 25 piezas a la vez. El RIE es un proceso sumamente versátil, pero en el que deben controlarse y ajustarse muchos parámetros. Diener ofrece una gran variedad de servicios para ayudarlo a desarrollar el mejor procedimiento de RIE para su material.

Grabador de Iones Reactivos – Usuarios y Usos

Aunque el RIE se aplica con mayor frecuencia en la fabricación de circuitos integrados, tiene muchas otras aplicaciones fuera de la industria de semiconductores.

  • Tecnología dental – El RIE facilita la fabricación de brackets
  • Tecnología de sensores –El RIE permite dar estructura a capas sensibles y/o porosas
  • Tecnología médica – El RIE tiene numerosas aplicaciones, entre las que se encuentra la fabricación de marcapasos

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