Deposición Física de Vapor - Unidades de plasma • Aplicaciones PVD • Recubrimiento para trabajo de metales
La deposición fí-sica de vapor, también conocida como PVD, es un proceso de recubrimiento que toma materiales sólidos y los evapora para depositar recubrimientos delgados hasta el nivel atómico sobre una superficie deseada. La deposición fí-sica de vapor se utiliza para varios propósitos. El PVD puede mejorar la dureza y la resistencia al desgaste, reducir la fricción de las piezas mecánicas y ralentizar el proceso de oxidación de las superficies metálicas. PVD es un proceso completamente fí-sico. Se puede lograr mediante el uso de condensación y evaporación al vací-o a alta temperatura, o se puede realizar mediante el uso de una técnica llamada recubrimiento por pulverización catódica con plasma.
La deposición fí-sica de vapor se utiliza en la fabricación de muchos artí-culos y para muchos propósitos. Los materiales comunes que se pueden aplicar como revestimiento mediante la deposición fí-sica de vapor son el nitruro de titanio, el nitruro de circonio, el nitruro de cromo y el nitruro de titanio y aluminio. PVD es un paso importante en muchos procesos de fabricación, incluida la fabricación de dispositivos semiconductores y herramientas de corte recubiertas. Hacen que las piezas o superficies sean más duras, más resistentes a la corrosión y a la abrasión. Los recubrimientos PVD pueden ser útiles en casi todos los campos cientí-ficos, incluidos el aeroespacial, automotriz, quirúrgico, óptico, etc.
Para obtener más información sobre el uso del plasma en la fabricación, lea nuestro libro electrónico titulado "Guí-a de activación de superficies del fabricante para una mejor adherencia".
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