El grabado iónico reactivo (RIE) se utiliza en la industria de los semiconductores para eliminar material de las obleas. Thierry ofrece sistemas RIE para la industria de semiconductores.
RIE significa grabado con iones reactivos. ísta es una forma de poner en contacto sustratos utilizando un electrodo conmutado de alta frecuencia. El grabado con iones reactivos se utiliza con mayor frecuencia en la reducción continua de circuitos integrados. Este proceso se puede lograr utilizando un sistema de plasma de baja presión Diener.
Para obtener más información sobre el grabado, consulte nuestro libro electrónico titulado "Estrategia de limpieza y grabado con plasma para una mejor calidad del producto".
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